主營產(chǎn)品:
光學(xué)儀器、光學(xué)材料、實(shí)驗(yàn)儀器、手動工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設(shè)備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動元件、電工電氣、測量工具、計(jì)量設(shè)備、氣動工具、電動工具、化工設(shè)備、化工輔料、點(diǎn)膠設(shè)備、小型設(shè)備、儲存設(shè)備、物流設(shè)備、工業(yè)安防、**防護(hù)、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設(shè)備、辦公文 具、工裝夾具、測試治具、機(jī)械加工。設(shè)備等。
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
CMP是在IC 制造工程中晶圓表面平坦化工藝之一環(huán)，使用化學(xué)研磨劑、研磨墊等，通過化學(xué)和機(jī)械的復(fù)合作用，對晶圓表面的凹凸不平進(jìn)行研磨，達(dá)到平坦化要求的設(shè)備。
詳情介紹：
