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加熱用鹵素?zé)襞?/span>
外延生長設(shè)備用鹵素?zé)襞?/span>
在半導(dǎo)體制造過程中氧化硅晶片表面時(shí)用作加熱的鹵素?zé)襞荨?/span>
其他用途
- RTP設(shè)備用鹵素?zé)襞?/span>
- CVD設(shè)備用鹵素?zé)襞莸?/span>
與電熱絲等加熱器相比,它具有啟動(dòng)快、響應(yīng)好、清潔、熱能特性穩(wěn)定等特點(diǎn),是一種高效光源。
光學(xué)鏡面濾鏡
它可以控制波長
用于半導(dǎo)體制造過程中印刷電路圖案時(shí)使用的曝光設(shè)備燈的波長控制。
光學(xué)鏡是只反射特定波長的光而透射(或吸收)其他光的鏡子。
與鏡子相反,濾光器是一種僅透射特定波長的光并反射(或吸收)其他光的濾光器。
根據(jù)應(yīng)用,有各種變化,例如冷鏡、帶通濾波器和分色鏡。
- 細(xì)節(jié):濾光鏡
步進(jìn)電機(jī)用超高壓汞燈
一種長壽命、高穩(wěn)定性的超高壓汞燈,具有很強(qiáng)的紫外線強(qiáng)度。
作為半導(dǎo)體制造過程中印刷電路圖案時(shí)曝光設(shè)備的燈,滿足高品質(zhì)的需求。
在半導(dǎo)體制造過程中,需要*大限度地進(jìn)行超精細(xì)加工,對(duì)曝光設(shè)備的燈管制定了嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。用于步進(jìn)機(jī)的超高壓汞燈在晶圓表面印刷電路時(shí)使用,因?yàn)樗鼈兛梢蚤L時(shí)間保持高照度,光束效率穩(wěn)定,并且環(huán)保性**。
UV清洗/重整設(shè)備
使用短波紫外線的清洗/重整裝置。
在半導(dǎo)體制造過程中,用于在處理硅片之前去除有機(jī)物質(zhì)。
具有干式工藝、無真空系統(tǒng)、無損傷等特點(diǎn),使用紫外線燈和照射裝置的高功率照射裝置可實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)溶劑和超聲波清洗難以實(shí)現(xiàn)的高質(zhì)量、高速處理.
紫外線清洗
通過紫外線的作用產(chǎn)生的臭氧中分離出的活性氧的作用,將有機(jī)污染物分解、轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性物質(zhì)并去除。
紫外線改性
被照射的有機(jī)物被紫外線照射使表層的化學(xué)鍵斷裂,紫外線產(chǎn)生的從臭氧中分離出來的活性氧與斷裂的表層分子結(jié)合,形成高度親水的官能團(tuán). 轉(zhuǎn)換為。
用于清洗和重整的低壓汞燈
它發(fā)出 185 nm 和 254 nm 的紫外線。同時(shí),它是一種將空氣中的氧氣轉(zhuǎn)化為臭氧,去除(凈化)有機(jī)物,修飾有機(jī)物表面的燈。
- 詳細(xì)信息:清洗/重整系統(tǒng)
紫外線水處理系統(tǒng)
紫外線**水處理系統(tǒng)
極速**超純水處理能力大
UV氧化水處理系統(tǒng)
大功率低壓汞燈實(shí)現(xiàn)高效氧化分解
紫外線水處理系統(tǒng)用于對(duì)半導(dǎo)體制造工藝必不可少的超純水進(jìn)行**,以及去除廢水回收和再利用系統(tǒng)中的有機(jī)物質(zhì)。
超純水的生產(chǎn)成本高昂,且經(jīng)常大量使用,因此通常采用使用后回收、去除雜質(zhì)、然后再處理的系統(tǒng)。UV氧化處理系統(tǒng)通過使用低壓汞燈有效氧化分解超純水生產(chǎn)系統(tǒng)中難以處理的低分子有機(jī)物雜質(zhì)和各種工業(yè)廢水中的有機(jī)物,實(shí)現(xiàn)了高速處理。
- 詳情:**/**系統(tǒng)【水的**】
- 詳細(xì)信息:凈水系統(tǒng)