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主營產(chǎn)品:

光學(xué)儀器、光學(xué)材料、實(shí)驗(yàn)儀器、手動工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設(shè)備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動元件、電工電氣、測量工具、計量設(shè)備、氣動工具、電動工具、化工設(shè)備、化工輔料、點(diǎn)膠設(shè)備、小型設(shè)備、儲存設(shè)備、物流設(shè)備、工業(yè)安防、**防護(hù)、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設(shè)備、辦公文具、工裝夾具、測試治具、機(jī)械加工。設(shè)備等。

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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：日本OTSUKA大塚電子膜厚監(jiān)測重慶代理
產(chǎn)品型號：FE-300
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

這是一款小型、低成本的膜厚測量儀，可通過高精度光學(xué)干涉測量法實(shí)現(xiàn)易于操作的膜厚測量。我們采用一體式外殼，將必要的設(shè)備存儲在主機(jī)中，實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。雖然價格便宜，但可以通過獲取覺對反射率來分析光學(xué)常數(shù)。銷售中心-重慶內(nèi)藤naitokikai

詳情介紹：

品信息

特征

支持從薄到厚的廣泛薄膜厚度
使用反射光譜的膜厚度分析
緊湊、低成本、非接觸、無損、高精度測量
簡單的條件設(shè)置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度
使用峰谷法、頻率分析法、非線性*小二乘法、*優(yōu)化法等，可以進(jìn)行廣泛的膜厚測量。
光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）可以通過非線性*小二乘法的膜厚分析算法進(jìn)行。

測量項(xiàng)目

覺對反射率測量
薄膜厚度分析（10層）
光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

測量對象

功能性薄膜、塑料
透明導(dǎo)電薄膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、膠粘劑、粘合劑、保護(hù)膜、hard Coat、抗指紋代理等
半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、Sapphire等。
表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。
光學(xué)材料
濾光片、增透膜等
FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)薄膜、密封膠）等
其他

HDD、磁帶、建材等

原則

測量原理

Otsuka Electronics 使用光學(xué)干涉儀和我們自己的高精度分光光度計實(shí)現(xiàn)非接觸、非破壞性、高速和高精度的薄膜厚度測量。光學(xué)干涉測量法是一種利用光學(xué)系統(tǒng)使用分光光度計獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚度的方法，如圖 2 所示。以鍍在金屬基材上的薄膜為例，如圖1所示，從目標(biāo)樣品上方入射的光被薄膜表面反射（R1）。此外，透過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處反射。測量此時因光程差引起的相移而引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性*小二乘法和優(yōu)化法。

膜厚測量原理圖

規(guī)格

測量波長范圍	300-800nm
測量膜厚范圍（SiO ₂換算）	3納米至35微米
光斑直徑	φ1.2mm
樣本量	φ200×5(H)mm
測量時間	0.1至10秒內(nèi)
電源	AC100V±10% 300VA
尺寸、重量	280（寬）x 570（深）x 350（高）毫米，24 公斤
其他的	參考盤、菜譜制作服務(wù)